Ion Etching System for Xtals and OSCs
Цифровое
производство
Оборудование Услуги и решения Программное обеспечение Мероприятия
Материалы для печати в наличии
Мониторинг станков и оборудования
Специальные цены на линейку программ nanoCAD
WINNUM 5.0
Видеозаписи вебинаров

Ion Etching System for Xtals and OSCs


Ion Etching System for Xtals and OSCs

Производитель - GARAM

Сделать заказ


Установка ионно-плазменного травления.



Функции


  • автоматическая ионная подстройка частоты SMD-резонаторов и осцилляторов с предварительной вакуумной камерой и функцией электроочистки.
  • Интеграция загрузки, пре-вакуума и камеры подстройки в единый цикл.

Применение


  • 5032 / 3225 / 2520 Xtal и OSC

Характеристики


  • диапазон подстройки 8–110 МГц (Xtal),
  • 32 кГц – 220 МГц (OSC),
  • точность ±3 ppm (±10 ppm для 8–10 МГц и ≥96 МГц),
  • выход годных >99%, 
  • скорость 0.4–1.1 с/шт, 
  • 768-позиционный лоток (tray), 
  • предельный вакуум <9.9×10⁻⁴ Па. 

Габариты


  • 1400×1300×1800 мм (основной блок) + 800×600×1450 мм (загрузка), 
  • ~800 кг, 
  • 6.5 кВт.


Назад в раздел